平板型化學濾網無論是安裝在 FFU（風機濾網機組） 或無塵室天花板的 HEPA/ULPA 濾網上游，或是整合至光罩與晶圓儲存櫃（Stocker）中，此濾網皆能針對AMC氣態污染物提供嚴密的保護。本產品採用專門的化學過濾材，可針對特定 AMC 或多種污染物同時處理，確保半導體與精密電子製造環境達到最高等級的空氣潔淨度。

採用摺景式結構，將吸附劑嵌入合成纖維中，並組裝於輕巧且耐用的鋁製外框內。此設計能將化學吸附的表面積最大化，同時維持極低的氣流阻力。
每一件產品皆經過嚴格的釋氣（Outgassing）與發塵量測試，能滿足現代化晶圓廠（Fabs）嚴苛的潔淨度要求。透過從源頭移除酸性氣體、鹼性氣體及 VOCs，我們的平板型濾網能有效預防晶圓缺陷，並避免影響出風側高效濾網的性能。

產品特性

• 高吸附容量：採用 MA+MB 1000gsm 雙效碳密度配置，具備卓越的化學負載能力。
• 極低壓損：專為能源效率設計，在面風速 0.45 m/s 下，壓損維持於 < 55 Pa。
• 多重吸附技術：結合離子交換樹脂與浸漬碳，可在單一濾網中同時針對酸性氣體、鹼性氣體及 VOCs 進行防治。
• 無釋氣與無發塵特性：採用無塵室相容材料製造，確保不會產生摻雜劑（Dopants）或有機物的二次污染。
• 平板設計：薄型化的深度設計，便於安裝在空間受限的 FFU 及製程設備中。
• 鋁製外框構造：輕量且耐腐蝕，並配置白色鍍鋅噴漆網，以確保結構完整性。
• 實證效能：具備將濃度 10ppb 的 SO2、NH3 及 O3 降低至 < 2ppb 的處理能力（吸附效率 > 90%）。

產品應用

• FFU (風機濾網機組)：無塵室天花板系統中的首要化學過濾層。
• 晶圓與光罩儲存櫃 (Stockers)：保護儲存中的敏感材料。
• 精密環境：針對光刻、蝕刻及量測設備提供的局部 AMC 控制。
• 製程設備：整合至 OEM 設備中，以達成針對性的氣體移除。
• 製藥無菌室：控制化學異味與空氣中的交叉污染。

產品應用

平板型AMC濾網專為多功能應用而設計，是晶圓製造、硬碟（HDD）生產及平板顯示器工廠等高科技設施的理想選擇。其設計經過特別優化，可無縫整合至 FFU（風機濾網機組） 與局部精密環境中，為最敏感的生產區域提供靈活且具擴充性的AMC汙染防治的解決方案。

標準平板型AMC濾網的尺寸為 900x600x96mm，並可根據特定設備，客製外框尺寸。本產品採用高密度濾材，摺高為 40mm，在緊湊的體積內提供了總計 6m2 的過濾面積。該濾網專為長期穩定性而設計，即使面對 10ppb 濃度的氨氣（Ammonia）或二氧化硫（Sulfur dioxide）挑戰，仍能維持高吸附效率（> 90%），確保您的無塵室環境維持在AMC汙染的安全值內。

產品規格

• 外框材質：鋁製 (AL)
• 目標氣體：酸性氣體 (MA)、鹼性氣體 (MB)、揮發性有機化合物 (VOCs)
• 含碳量：MA+MB-1000 gsm
• 過濾面積：2.9 m2 (除酸) + 2.9 m2 (除鹼)
• 額定風量：880 CMH
• 壓力損失：< 55 Pa @ 0.45 m/s 面風速
• 防護網：進出風側均配置白色鍍鋅噴漆網
• 墊片：出風側配備 3mm EPDM 墊片
• 摺數：63 摺 (PPI: 1.8)

相片集

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  無塵室天花板系統中的首要化學過濾層