パネルタイプAMCフィルターは、重要な「使用ポイント」アプリケーションにおける分子汚染物質を排除するために特別に設計された高清浄度ソリューションです。 HEPA/ULPAフィルターが設置されたファンフィルターユニット（FFU）、クリーンルームの天井、またはレチクルおよびウェハーストッカーに統合されているかにかかわらず、このフィルターは気体汚染物質に対する強力なバリアを提供します。 これは、特定のAMCまたは複数の汚染物質を同時にターゲットにするために、独自の化学ろ過媒体を利用しており、半導体およびマイクロエレクトロニクス製造のための最高の空

私たちのパネルフィルターは、合成繊維内に吸着剤が埋め込まれた高度なプリーツ構造を特徴としており、軽量でありながら耐久性のあるアルミニウム（AL）フレームに組み立てられています このデザインは、非常に低い気流抵抗を維持しながら、化学吸着表面積を最大化します。 すべてのユニットは、現代のファブの厳格な清浄度要件を満たすために、揮発性ガスと粒子の放出について厳密にテストされています。 酸、塩基、揮発性有機化合物（VOCs）を発生源で除去することにより、当社のパネルはウエハーの欠陥を防ぎ、出口側の高効率粒子フィルターの性能を損なうことを避けます。

特徴

• 高吸着容量：優れた化学負荷のために、二重作用のMA+MB-1000gsm炭素密度を特徴としています。
• 超低圧損：エネルギー効率を考慮して設計されており、流速0.45 m/sで55 Pa未満を維持します。
• マルチソルベント技術：イオン交換樹脂と浸透炭を組み合わせて、酸、塩基、VOCsを1つのパネルでターゲットにします。
• 非ガス放出＆非粉塵：クリーンルーム対応の材料で構築されており、ドーパントや有機物の二次汚染を防ぎます。
• スリム＆コンパクトデザイン：低プロファイルの深さにより、スペースが限られたFFUやプロセス機器への簡単な設置が可能です。
• アルミフレーム構造：軽量で耐腐食性があり、構造的完全性のために白い亜鉛メッキメッシュが装備されています。
• 実証済みの効率：SO2、NH3、O3の10ppb濃度を2ppb未満に低減する能力があります（吸着率90％以上）。

用途

• FFU（ファンフィルターユニット）：クリーンルームの天井グリッドにおける主要な化学ろ過層。
• ウエハー＆レチクルストッカー：保管中の敏感な材料の保護。
• ミニ環境：リソグラフィー、エッチング、計測ツールのための局所的AMC制御。
• プロセス機器：ターゲットガス除去のためのOEMツールへの統合。
• 製薬用無菌室：化学臭と空中交差汚染の制御。

用途

多用途に設計されたパネルタイプAMCフィルターは、ウェーハ製造やHDD生産からフラットパネルディスプレイ施設まで、高度な技術を要する施設に最適な選択肢です。そのフラットパネルデザインは、FFUやローカライズされたミニ環境へのシームレスな統合のために特に最適化されており、最も敏感な生産ゾーンでの化学的空気品質管理のための柔軟でスケーラブルなソリューションを提供します。

仕様

• フィルタータイプ: パネル (PNL)。フレーム素材: アルミニウム (AL)。
• 対象ガス: 酸 (MA)、塩基 (MB)、VOCs。
• 炭素含有量: MA+MB-1000 gsm。
• ろ過面積: 2.9 m2 (酸除去) + 2.9 m2 (塩基除去)。
• 風量能力: 880 CMH。
• 圧力損失: < 55 Pa @ 0.45 m/s。
• メッシュ: 白い亜鉛メッキ塗装メッシュ (入口/出口)。
• ガスケット: 出口側に3mmのEPDM。
• プリーツ数: 63プリーツ (PPI: 1.8)。

仕様

標準のパネルタイプAMCフィルターは、900x600x96mmの寸法で提供され、特定の機器ハウジングに合わせたカスタマイズ可能なサイズも利用可能です。 40mmのプリーツ高さを持つ高密度プリーツメディアを特徴としており、コンパクトなフットプリントでほぼ6 m2の合計ろ過面積を提供します。 長期的な安定性を考慮して設計されており、10ppbレベルのアンモニアや二酸化硫黄にさらされても高い吸着効率（> 90%）を維持し、クリーンルーム環境が分子安全基準内に保たれることを保証します。

ギャラリー

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  AMCの高精度除去のために設計されています。