ボックス型Vバンクフィルターは、高度な製造業の厳しい空気清浄基準を満たすために設計された専門的な化学ろ過ソリューションです。 耐久性のあるABSプラスチックフレームと高い清浄度の埋め込み吸着剤で構成されたこのフィルターは、VOCs、酸、塩基を効果的に中和します。 クリーンルームのメイクアップエアユニット（MAU）および再循環エアユニット（RCU）に最適な選択肢であり、汚染物質のない環境を維持することが生産効率と設備の寿命にとって不可欠です。

高性能な空気循環のために設計されたVバンク構成は、利用可能なフィルトレーション表面積を最大化します—6Vモデルでは最大10.3 m2です。 このデザインは、非常に低い圧力損失を維持しながら、高い空気流量能力を可能にします。 高いメディア清浄度のコンポーネントと低放出ガス材料を利用することで、フィルターは二次汚染物質が空気流に導入されないことを保証し、高度なリソグラフィーおよび製薬プロセスに対して安定した信頼性のあるAMC緩和ソリューションを提供します。

特徴

• 高クリーンリネス埋め込み吸着剤：粒子の剥離ゼロで、VOCs、酸、塩基、オゾンのターゲット除去に最適化されています。
• 先進的なVバンクデザイン：大面積デザイン（6Vまたは2V）は、高いろ過効率と最適なエネルギー消費のバランスを取ります。
• 低圧損：3400 CMHで< 120 Paを達成し、高風量環境でのファンエネルギーコストを大幅に削減します。
• 低アウトガス構造：すべてのコンポーネントはクリーンルームグレードのアウトガス基準を満たすように選定され、化学的干渉をゼロにします。
• 軽量ABSフレーム：従来の金属フレームと比較して、耐腐食性があり、取り扱いが容易です。
• 性能予測可能性：サービスライフと除去効率は、独自のソフトウェアを通じて正確に予測でき、より良いメンテナンス計画が可能です。
• 設置の便利さ向上：既存のフレームに迅速に固定できるように設計されており、フィルター交換中のダウンタイムを最小限に抑えます。

用途

• 半導体製造：ウエハと敏感な光学機器を有機物および酸の汚染から保護。
• 電子機器製造：高精度組立およびTFT-LCD生産のための空気の純度を確保。
• 製薬およびバイオテクノロジー：化学交差汚染の制御と無菌環境基準の維持。
• MAU（メイクアップ空気ユニット）：新鮮な空気取り入れのための高効率化学前濾過。
• RCU（再循環空気ユニット）：クリーンルームの空気ループ内で低AMCレベルを維持。

用途

私たちのボックス型Vバンクフィルターは、ピーク循環効率を必要とする高風量クリーンルーム環境に特化して設計されています。さまざまな既存の空気処理システムと完全に互換性があり、柔軟な拡張と統合の可能性を提供します。新しい半導体ファブ用でも、製薬の無菌スイートへのアップグレード用でも、このフィルターは標準のマウントフレームにシームレスにフィットするスケーラブルでコスト効果の高いAMCソリューションを提供します。

仕様

• フレーム素材：ABSプラスチック（6V / 4V / 2V構成）。
• 対象汚染物質：VOCs、酸、塩基、オゾン。
• 炭素含有量：800 gsm。
• フィルトレーション面積：10.3 m2（6Vフルサイズ）/ 3.5 m2（2Vハーフサイズ）。
• 定格風量：3400 CMH（6V）/ 1700 CMH（2V）。
• 静圧降下：< 120 Pa @ 2.5 m/sの面速度。
• 重量：< 17 kg（フルサイズ）/ < 12 kg（ハーフサイズ）。
• 清浄度：低アウトガス成分を持つ高清浄度メディア。

仕様

ボックス型Vバンクフィルターは、主に2つのサイズで利用可能です：W610H610D290mm（6V）およびW305H610D290mm（2V）。 6Vモデルは、印象的な10.3 m2のフィルターメディア面積を提供し、3400 CMHの高い風量をサポートし、面速度は2.5 m/sです。炭素密度は800 gsmで、圧力降下は120 Pa未満に維持されており、これらのフィルターはシステムのエネルギー効率を損なうことなく、長持ちするAMC保護を提供します。 カスタムメディアブレンドは、サイトの要件に基づいて特定の分子汚染物質をターゲットにするために利用可能です。

ギャラリー

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  高性能な空気循環のために設計されています

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  重要なAMC制御のために設計されています