私たちのボックス型プリーツフィルターは、重要な製造環境において低濃度の分子汚染物質を排除するために特別に設計されたプレミアムソリューションです。実績のあるドライプロセスカーボンコンポジットメディア（DPCC）技術を活用することで、このフィルターは高い吸着能力と優れた化学物質除去効率を提供します。特定の汚染物質をターゲットにした5種類の特殊な浸透カーボンブレンドを提供し、クリーンルーム環境が分子純度に関する厳しいISO基準を満たすこと

高性能の空気処理のために設計されたプリーツボックス構造は、化学媒体の表面積を最大化しながら、炭素顆粒の均一な分布を維持します。この構造設計により、フィルターは高い面速度（2.5 m/s）でも高い除去率（>90%）を達成します。非粉塵構造により二次汚染を防ぎ、敏感な半導体製造ラインや製薬の無菌室にとって信頼できるコンポーネントとなります。

特徴

• 低初期静圧：最適化されたプリーツデザインにより、低抵抗で高い気流（最大3400 CMH）を実現し、エネルギー消費を大幅に削減します。
• 先進のDPCC技術：乾式処理されたカーボンコンポジットメディアを利用し、化学吸着表面積を最大化します。
• マルチガス制御：酸、塩基（アルカリ）、有機化合物（VOCs）のターゲット除去のためにカスタマイズ可能なメディアブレンドが利用可能です。
• 非粉塵＆低揮発性：カーボン顆粒は合成繊維にしっかりと結合されており、粒子の脱落や化学物質の揮発を防ぎます。
• 高除去効率：ターゲット分子汚染物質に対して90％以上の初期除去効率を達成します。
• 頑丈な構造：構造的完全性を保つために、亜鉛メッキ鋼またはステンレス鋼のフレームと両面ダイヤモンドメッシュを特徴としています。
• MERV 8微粒子効率：微粒子と分子汚染物質の両方を処理することにより、二重作用のフィルタリングを提供します。

用途

• MAU（メイクアップ空気ユニット）：半導体クリーンルームのための新鮮な空気取り入れ処理。
• RCU（再循環空気ユニット）：循環システムにおける空気の純度維持。
• ドライコイル：化学的腐食と堆積物からの保護。
• 半導体製造：AMC関連のウェーハ欠陥の防止。
• 製薬およびバイオテクノロジー：ラボおよび生産エリアにおける空気中の化学交差汚染の制御。

用途

このフィルターは、半導体ファブ、TFT-LCD製造、製薬クリーンルームなどの高風量環境向けに特別に設計されています。生産歩留まりとエネルギー効率を維持するために「低圧損」と「ガス放出なし」が重要なMAU、RCU、ドライコイルシステムに理想的に設置されます。

仕様

• 媒体タイプ：活性炭 / 吸着炭 / イオン交換樹脂。
• 対象ガス：酸（SOx、NOx、HCl）、塩基（NH3、アミン）、有機物（VOCs）。
• 初期除去効率：> 90%。
• 圧力損失：< 120 Pa @ 3400 CMH（モデル：W592H592D292mm）。
• 炭素含有量：800 gsm。
• フレーム材料：亜鉛メッキ鋼（GI）またはステンレス鋼（SUS）。
• ガスケット：出口側に6mmのEPDM。
• 最大寸法：1200 × 1000 × 100 mm（カスタマイズ可能なサイズあり）。

仕様

ボックス型プリーツフィルターは、標準寸法で提供されており、592x592x292mm（風量：3400 CMH）および287x592x292mm（風量：1700 CMH）があります。 各ユニットは高いプリーツ数（最大32プリーツ）と260mmのプリーツ高さで構築されており、ろ過面積を最大化しています（最大9.7 m²）。 この製品は16kg未満の重さで、標準フィルターバンクに簡単に取り付けることができます。 特定のAMC緩和要件を満たすために、カスタムフレームとメディア構成が利用可能です。

ギャラリー

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  高流量環境向けに設計されています

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  半導体クリーンルーム用の新鮮な空気取り入れ処理

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  高度なAMC制御のために設計されています

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  分子汚染物質を排除するように設計されています

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  高性能空気処理のために設計されています